一、硅芯片無氧真空烤箱箱體規(guī)格

箱體結(jié)構(gòu)：連體式，真空泵置于機(jī)臺(tái)下部；

隔層：內(nèi)分二層，配網(wǎng)板二塊，可活動(dòng)抽出；

面板安裝：控制面板安裝于機(jī)臺(tái)下方（如設(shè)備外觀圖）；

開門方式：單由右至左開啟;

可視窗：門上帶可視窗，規(guī)格W250×H300mm；

內(nèi)箱材料為：304#不銹鋼工業(yè)板；內(nèi)箱加強(qiáng)處理，抽真空不變形；

外箱材料為：冷軋鋼板,厚1.2mm,表面烤漆處理；

保溫材質(zhì)為：耐高溫巖棉，保溫層厚100mm，保溫效果好；

安裝帶剎車活動(dòng)腳輪，可任意推動(dòng)；

二、硅芯片無氧真空烤箱控溫系統(tǒng)

溫度范圍：常溫+30℃～200℃

控制精度：±0.5℃

顯示精度：0.1℃        

箱內(nèi)溫度均勻度：±5℃%(無真空時(shí)，空箱測試)

升溫速率：RT→100℃（約30分鐘），200℃（約45分鐘）

三、真空系統(tǒng)

真空度：0～-101KPa（≤133pa）

真空保壓泄漏率：約0.8KPa每小時(shí)

采用高密封性的硅膠密封條保障整機(jī)的密封性；

采用數(shù)顯示式真空表直接顯示內(nèi)箱真空度，讓你即時(shí)了解箱體內(nèi)的真空狀態(tài)，真空度達(dá)到0－-0.1Mpa (即:100pa真空度)

四、充氮?dú)庋b置

1、調(diào)壓閥：控制氮?dú)鈮毫?，正常使用下氮?dú)鈮毫φ{(diào)為2.5公斤左右；

2、面板流量計(jì)：控制氮?dú)膺M(jìn)入箱內(nèi)的大小，量程為10L/min-60Lmin；

3、氮?dú)夤艿肋M(jìn)入到箱內(nèi)正后面，調(diào)壓閥處預(yù)留8mm快插氣管接口；

4、注：氮?dú)庥捎脩糇詡洹?/span>